等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用
【作 者】张海洋等编著
【丛书名】高端集成电路制造工艺丛书
【形态项】 376
【出版项】 北京：清华大学出版社 , 2018.03
【ISBN号】978-7-302-48959-7
【中图法分类号】TN405.98
【原书定价】128.00
【主题词】大规模集成电路-集成电路工艺-等离子刻蚀
【参考文献格式】 张海洋等编著. 高端集成电路制造工艺丛书 等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用. 北京：清华大学出版社, 2018.03.
内容提要:
本书共9章，基于公开文献全方位地介绍了低温等离子体蚀刻技术在半导体产业中的应用及潜在发展方向。以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，对传统及已报道的先进等离子体蚀刻技术的基本原理做相应介绍，随后是占据了本书近半篇幅的逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的深度解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望。本书可以作为从事等离子体蚀刻工艺研究和应用的研究生和工程技术人员的参考书籍。
下载链接：https://share.weiyun.com/2EFhUbHu 密码：ehg9fj